SALANG SW-G1000 SERIES

三合一测量系统 SW-G1000 系列

共焦、白光干涉与聚焦变化三种测量方式,覆盖从超光滑镜面到粗糙面、陡坡与复杂微结构的三维测量任务。围绕样品表面状态、结构高度和分析目标选择更合适的测量方式,在同一平台中完成粗糙度、台阶高度、三维轮廓与表面特征分析。

粗糙度分析 台阶高度 三维轮廓

01 / 产品定位

不同表面,用更合适的测量方式。

SW-G1000 系列是一套集成共焦、白光干涉与聚焦变化三种光学测量方式的三维表面测量系统。三种方式分别面向不同的表面反射特性、粗糙程度、坡度和高度变化,使超光滑镜面、常规精密表面、粗糙金属、薄膜台阶、沟槽与复杂微结构能够在同一平台中完成测量。

用户可根据样品状态与分析目标选择测量路径,并在统一软件中完成区域设置、数据采集、倾斜与形状校正、粗糙度计算、台阶与轮廓分析以及报告输出。不同方式获得的数据进入同一分析流程,减少在多台设备之间切换、重新定位和重复处理带来的时间与结果差异。

02 / 三种测量方式集成

镜面、粗糙面与陡坡,交给同一套系统。

SW-G1000 将共焦、白光干涉与聚焦变化集成于同一测量平台。白光干涉侧重超光滑连续表面和微小高度变化,共焦适合常规精密表面与微结构测量,聚焦变化则更适合粗糙面、陡坡和较大高度变化。用户可根据样品状态选择更合适的测量方式,而无需为不同表面分别配置独立设备。

03 / 白光干涉与 ICA 高度提取

从干涉峰值中,提取真实表面高度。

白光经参考光路与测量光路反射后形成干涉信号,仅在光程差接近零时出现高对比度零级干涉峰值。系统通过 Z 轴垂直扫描记录各像素的干涉响应,并结合 ICA 相关性处理,为每个像素确定对应的高度位置,形成三维表面数据。

  1. Z 轴扫描
  2. 像素干涉信号
  3. 零级干涉峰值
  4. 高度位置
  5. 三维表面
04 / 粗糙度、台阶与三维轮廓

从微观起伏,到结构高度,都形成可分析的数据。

系统可围绕表面粗糙度、台阶高度、沟槽、微柱和三维轮廓开展分析。完成数据采集后,软件可进行倾斜与宏观形状校正,再从表面高度分布中计算粗糙度参数、区域高度差、剖面尺寸和结构形貌。

粗糙度表面 台阶高度 三维轮廓
05 / Mapping 与大范围三维测量

从单一视野,扩展到完整表面。

针对超出单一视野的样品,系统可配合电动 XY 平台进行多点 Mapping 采集,并将多个局部三维数据拼接为更完整的表面结果。用户可从整体平面度、区域形貌与局部细节之间切换,适合晶圆、玻璃、薄膜、精密零件及其他大平面样品。

单视野三维数据 XY 多点采集 Mapping 拼接 完整三维表面 局部区域复核
06 / 软件工作流与结果输出

从样品放置,到可复核的测量结果。

软件将测量区域设置、光路与模式选择、数据采集、噪声处理、坐标转换、倾斜校正、二维 / 三维 / 剖面分析与报告输出连接在同一流程中。用户可围绕关键区域建立测量任务,并保存图像、三维数据、粗糙度、台阶与尺寸结果。

样品定位 模式选择 数据采集 校正与处理 粗糙度 / 台阶 / 轮廓 报告输出
01 / 表面粗糙度

从三维高度分布,得到表面粗糙度参数。

系统通过垂直扫描获得测量区域内各像素的高度信息,并在分析前去除宏观倾斜与形状趋势。经过预处理后,可围绕表面微观高度偏差计算 Sa、Sq、Sz、Ssk、Sku 等粗糙度参数,并结合三维表面、二维高度图、剖面和统计结果进行判断。

02 / 台阶高度

锁定高低表面,测出真实高度差。

在白光干涉测量中,系统分别捕捉台阶低位与高位平面的零级干涉峰值,并记录对应的 Z 轴位置。通过区域均值、剖面或基准面分析,可得到薄膜、涂层、晶圆结构及其他微小台阶的高度差。

03 / 三维轮廓

沟槽、微柱与复杂起伏,完整还原为三维结构。

系统可获取样品表面的宏观与微观三维形貌,并围绕沟槽、微柱、凹坑、凸起、磨损和加工纹理等结构进行分析。通过坐标转换、倾斜校正和区域提取,可进一步获得剖面、尺寸、体积与形貌结果。

04 / Mapping 与软件

从局部测量,连接到完整样品与分析报告。

对于需要覆盖更大区域的样品,系统可通过电动 XY 平台进行多点采集并完成 Mapping 拼接。用户可在总览中选择关键区域,继续完成粗糙度、台阶、剖面和三维分析,并将结果用于研发记录、质量复核与报告输出。

配置与扩展

围绕样品、工作距离与测量范围组合配置

SW-G1000 以三合一复合测量头为核心,可根据样品尺寸、表面状态、工作距离、测量区域和自动化需求配置物镜、载物台及扩展平台。具体组合不按简单高低配区分,而应围绕实际样品与测量任务确定。

SW-G1000 设备与平台配置
SW-G1000:围绕测量头、物镜、载物台和项目扩展组合配置。
三合一复合测量头

三种测量方式,共用同一测量平台。

测量头集成共焦、白光干涉与聚焦变化三种光学方式。用户可根据镜面、常规精密表面、粗糙面、陡坡和高度变化选择更合适的测量路径,并在统一坐标和软件流程中完成分析。

共焦 · 白光干涉 · 聚焦变化
物镜配置

根据视场、工作距离与结构尺度选择物镜。

系统可根据具体方案配置常规物镜、长工作距离物镜、消色差物镜及干涉测量相关物镜,以适配不同视场、空间限制、样品高度和表面测量任务。物镜范围和兼容关系以正式配置方案为准。

常规物镜 · 长工作距离 · 干涉测量配置
载物台与 Mapping

从单点测量,扩展到大面积与批量任务。

可根据样品尺寸与测量范围配置电动 XY 载物台、晶圆载物台、倾斜平台或大型样品平台,并通过多点 Mapping 扩展测量区域。具体行程、承载与拼接能力以所选平台为准。

电动 XY · 晶圆平台 · Mapping 拼接
定制与自动化扩展

为特殊角度、样品空间与自动化流程预留扩展。

针对多角度测量、特殊工装、加高样品或自动化检测流程,可评估五轴测量平台、定制载物台、触发与数据接口等项目扩展。此类能力属于项目配置,不作为所有设备默认标配。

五轴平台 · 定制工装 · 自动化接口

技术参数与配置

以下内容用于说明 SW-G1000 的主要测量方式、分析能力与可选配置。具体精度、量程、物镜、平台行程、测量速度和环境参数以正式规格书与项目配置为准。

配置项目 SW-G1000 系列
测量方式共焦、白光干涉、聚焦变化
主要分析表面粗糙度、台阶高度、三维轮廓、剖面、沟槽、微柱及区域形貌
粗糙度参数支持 Sa、Sq、Sz、Ssk、Sku 等参数,具体以软件配置为准
数据视图二维高度图、三维表面、剖面与参数结果联动
大范围测量按平台配置支持多点 Mapping 与大范围拼接
物镜配置常规、长工作距离、消色差与干涉测量相关物镜,按方案选配
载物台配置电动 XY、晶圆、倾斜及定制平台,按项目选配
自动化扩展五轴平台、工装、触发与数据接口等,按项目评估

半导体与 MEMS

晶圆表面粗糙度、薄膜台阶、沟槽、微柱、MEMS 结构与封装相关三维形貌测量。

精密加工

刀具、模具、密封面、磨削纹理、加工粗糙度、磨损与复杂零件表面轮廓分析。

光学与涂层

镜面、光学元件、超光滑连续表面、薄膜与涂层台阶的高度和粗糙度测量。

电子、新能源与材料

焊点、陶瓷基板、极片、涂层、腐蚀、磨损、粗糙金属与材料表面三维分析。

先看样品表面,再选择合适的测量方式。

提交样品材质、表面状态、结构高度、测量区域和分析目标,由工程师协助判断共焦、白光干涉、聚焦变化及平台配置方案。