SALANG SA-1000 SERIES

线光谱光学测量系统 SA-1000 系列

同时获取三维表面形貌与三维体层信息,面向晶圆、玻璃、薄膜、极片及精密平面样品,实现大范围快速建图、表面缺陷定位与自动化检测对接。

型号选择

01 / 产品定位

大面积表面快速三维测量

SA-1000 系列是一套大面积表面快速三维测量的线光谱光学测量系统。面向晶圆、透明层、陶瓷基片、电子元件及金属表面等多类样品,系统通过光谱共焦测量头与精密扫描平台连续采集,同步获取三维表面形貌、三维体层信息与二维强度数据。

对于既要快速查看整体表面,又要继续进行定量分析的检测任务,用户可在同一软件中选择测量区域,并对结构、粗糙度、波纹度、阶高与轮廓等表面特征进行分析,最终输出三维重建、反射图像和自定义报告。

02 / 扫描时间参考

不同区域的扫描时间参考

扫描区域扩大,测量时间依然清晰可预估。

300 × 300 mm 150 s 内
400 × 400 mm 260 s 内
500 × 500 mm 350 s 内

以上为产品手册所列预计扫描时间。标准测量范围及实际扫描效率会受到平台配置、测量参数与样品状态影响,具体以实际方案为准。

03 / 成像数据

三类数据,一次获取

一次扫描同时获取三维表面形貌、三维体层信息与二维强度图像,让不同维度的数据保持在同一测量与分析流程中。

3D 表面形貌

获取样品表面的三维几何信息

3D 体层扫描

获取多层三维几何与三维强度信息

2D 强度图像

用于物体、纹理与缺陷观察

04 / 样品适应能力

不同样品,也能从容测量

针对不同反射特性和表面状态,系统具备不同的有效测量角度范围,为倾斜、粗糙及反射差异明显的样品提供更充分的数据获取条件。

镜面表面 ±20°

镜面表面角度兼容参考

不透明或磨砂表面 最高 ±80°

不透明或磨砂表面角度兼容参考

05 / 软件测量流程

少一步操作,更快得到结果

软件将全景导航、测量任务设置、数据采集、表面特征分析与报告输出连接在同一工作流程中,减少重复定位与参数重复设置。

导航器 测量区域 分析
导航器功能
创建快速全景图,并使用鼠标选择测量范围
模板功能
保存测量参数,用于重复或半自动测量任务
双向扫描
通过往返采集缩短测量时间
自由轮廓扫描
灵活设置测量区域的起点与终点
分析与报告
支持结构、粗糙度、波纹度、阶高与轮廓分析,并输出三维重建、反射图像及自定义报告

从表面数据,到量化结果

SA-1000 系列完成表面数据采集后,可继续进行轮廓、直线度、截面面积、层厚、翘曲与共面性、粗糙度及阶高分析,将扫描结果转化为可比较、可记录的量化数据。

减少重复设置,更快完成测量

软件将全景导航、区域选择、参数设置、数据采集、分析与报告输出整合在同一流程中。常用参数可保存为模板,并支持双向扫描与自由轮廓扫描,减少重复设置和不必要操作。

型号与配置

同一系统平台,两种测量侧重

SA-1000 与 SA-1100 共用整机平台、测量范围和软件流程,型号由所配置的测量头决定。选择的关键不在于功能多少,而在于测量任务更需要更大的视野与工作空间,还是更细的横向数据与更高的拼接一致性。

SA-1000 系列线光谱光学测量系统
SA-1000:大视野与长工作距离配置。

SA-1000

更大的视野,为测量保留更多空间

SA-1000 更适合重视单次覆盖范围与样品空间的测量任务。11.6 mm 视野可以在一次采集中覆盖更大的局部区域,19.1 mm 工作距离则为较高样品、复杂结构或需要预留操作空间的测量场景提供更宽松的条件。

在保持系列共同的三维形貌、体层信息、强度成像和软件分析能力基础上,SA-1000 更侧重测量范围内的覆盖效率与样品适应空间,适合以整体表面、较大结构和常规精密测量为主的任务。

11.6 mm 视野 · 19.1 mm 工作距离

查看 SA-1000 配置
SA-1100 高精度配置线光谱光学测量系统
SA-1100:高精度测量头配置。
高精度升级

SA-1100

把测量重点,从看得更广推进到看得更细

SA-1100 面向对微细结构、微小轮廓变化和拼接一致性要求更高的测量任务。2.5 μm 水平方向分辨率能够获得更细的横向数据,0.05 μm Z 方向拼接重复性则提升连续扫描和多区域拼接时的数据一致性。

当常规测量已无法充分呈现细小结构差异,或研发、质量验证需要更精细的数据基础时,SA-1100 提供面向高精度需求的测量头升级。它不是简单增加功能,而是将测量能力进一步集中到细节分辨与结果一致性。

2.5 μm 水平方向分辨率 · 0.05 μm Z 方向拼接重复性

查看 SA-1100 配置

技术参数

以下参数用于展示 SA-1000 与 SA-1100 两种测量头配置的主要技术差异及系列通用规格。

参数项目 SA-1000 SA-1100
水平方向分辨率(μm)(轮廓线数据间隔) 6.5 2.5
Z 方向拼接重复性(μm) 0.2 0.05
高度方向重复精度 50–60 nm 50–60 nm
镜头距平台工作范围(CD)(mm) 19.1 7.8
测量范围(MR)(mm) 300 × 300 × 50 mm 300 × 300 × 50 mm
视野(FOV)(mm) 11.6 4.3
尺寸(mm) 1065 × 780 × 1765 mm 1065 × 780 × 1765 mm
机身防护 IP55 IP67
重量(kg) 320 300
系列通用规格
扫描时间
300 × 300 mm:预计 150 s 内 400 × 400 mm:预计 260 s 内 500 × 500 mm:预计 350 s 内
接口 GigE 千兆以太网
输入 差分 / 单端编码器、触发器
输出 2 × 数字输出
输入电压 100–240 VAC
运行温度 15–35 ℃
存储温度 -30–70 ℃
抗震性 频率 10–55 Hz,在 X、Y、Z 三个方向上 1.5 mm 双向振幅,每个方向持续 2 小时
抗冲击性 15 g,半正弦冲击,周期 11 ms,从 X、Y、Z 三个方向的正负方向冲击

典型应用

查看应用案例

半导体

晶圆表面检测、薄膜结构观察、缺陷快速定位。

新能源

极片、隔膜、涂层及大平面材料的快速建图。

精密加工

大尺寸精密表面、加工纹理与局部异常分析。

材料研究

玻璃、薄膜、复合材料等样品的结构与形貌分析。

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提交样品类型、检测目标与尺寸范围,赛慕朗工程师将根据实际任务,为您判断扫描范围、检测流程与配置方案。